发布单位：济南蓝光同茂科技有限公司 发布时间：2022-5-24
电腐蚀机腐蚀的特性 1、工艺复杂要求较高，需对位密贴工件。 2、电蚀刻出来的边角不够平滑有毛刺麻点 3、---达不到也不好掌控深浅。 4、不可控，只有完全成型了之后才能判断是否为良品，报废率高。 5、表面附着一层黑色物质难以清理，影响后期上色。 6、纹路图案更换起来成本会比较高。 7、腐蚀时间太慢，产量低。蚀刻机可以分为化学蚀刻机及电解蚀刻机两类。在化学蚀刻中是使用化学溶液，经由化学反应以达到蚀刻的目的，化学蚀刻机是将材料用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。
离子植入：其是用来控制半导体中杂的关键程序，对半导体表面附近区域进行掺杂技术。优点在于杂的控制，杂质分布的再重整，及低温下操作。 离子植入机主要的供厂商为amat，部份只有中电科电子装备公司能供应。市场预计今明两年离子植入机需求可达5亿美元与7亿美元。 沉积：pvd沉积为一种物理制程，此技术一般使用等惰性气体，藉由在高真空---离子以加速撞击溅镀靶材后，将靶材原子一个个溅击出来，使被溅击出来的材质沉积在晶圆表面。 薄膜沉积设备主要的供应商包含应用材料、vaportech、lamresearch、asm、tokki等。而相关设备制造厂有北方华创、沈阳拓荆等。北方华创是薄膜沉积设备---，目前技术已达到14nm。市场预计今明两年薄膜沉积设备需求可达15亿美元与20亿美元。 测试：在晶圆完成制造之前，会有一道晶圆中测工序。在测试过程中，会检测每一个芯片的电路功能。
