蓝光同茂智能蚀刻设备-长沙铜板电解蚀刻机

从光刻机还是蚀刻机，至少可以看得出来国产芯片已经取得了非常大的成就。

中微半导体7nm蚀刻机的量产，直接迈入行列，5nm蚀刻机也在实验阶段。而光刻机方面已迈入22纳米。

我们也相信如果光刻机与蚀刻机纷纷取得进展，也将成为如果挑战台积电、三星、英特尔背后大霸主的有力---。至少“科技自立”下，实现芯片研发国产化、加工制造本土化。那个时候，将会造福诸如华为、小米、ov等国产手机。

等离子干法刻蚀技术是利用等离子体进行薄膜微细加工的技术。在典型的干法刻蚀工艺过程中，一种或多种气体原子或分子混合于反应腔室中，在外部能量作用下（如射频、微波等）形成等离子体，干法刻蚀技术由于具有---的各向---和工艺可控性已被广泛应用于微电子产品制造领域，凭借在等离子体控制、反应腔室设计、刻蚀工艺技术、软件技术的积累与---，北方华创微电子在集成电路、半导体照明、微机电系统、---封装、功率半导体等领域可提供---装备及工艺解决方案。形成了对硅、介质、化合物半导体、金属等多种材料的刻蚀能力，其中应用于集成电路领域的硅刻蚀机已突破14nm技术，进入主流芯片代工厂，其余各类产品也凭借其优异的工艺性能成为了客户的。