刻蚀机和光刻机的区别：光刻机把图案印上去，然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案（或者没有图案）的部分，留下剩余的部分。刻蚀相对光刻要容易。如果把在硅晶体上的施工比成木匠活的话，光刻机的作用相当于木匠在木料上用墨斗划线，刻蚀机的作用相当于木匠在木料上用锯子、凿子、斧子、刨子等施工。蚀刻机和光刻机性质一样，但精度要求是天壤之别。木匠做细活，一般到毫米就行。做芯片用的刻蚀机和光刻机，要到纳米。现在的手机芯片，如海思麒麟970，高通骁龙845都是台积电的10纳米技术。10纳米有多小呢？打个比方。如果把一根直径是0.05毫米头发丝，按轴向平均剖成5000片，不锈钢蚀刻机腐蚀牌，每片的厚度大约就是10纳米。现在---的光刻机是荷兰的asml公司，到10纳米。台积电买的都是它的光刻机。asml公司实际上是美国、荷兰、德国等多个技术合作的结果。因为这方面的研究难度太大，单个完成不了。除了asml，上只有我们还在光刻机上努力研发。
1、上色机
任何一件需求蚀刻的标牌，在凸起的部分都要有抗蚀保护层，不然就会洼陷。而标牌上洼陷的区域，也一定要填上油漆以起到装饰与防护目的。这就需求标牌加工厂具有一台用于金属腐蚀标牌的电泳填漆工艺的上色机。
2、冲压机
标牌加工厂运用的冲压机通过电动机驱动飞轮，并通过离合器，传动齿轮带动曲柄连杆机构使滑块上下运动，金属蚀刻机公司，带动拉伸模具对金属板成型。并依据吨位的不同，冲压标牌的尺度是不一样的。
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其次蚀刻机的均匀性对蚀刻产品影响也比较大。蚀刻机的均匀要可以调节，那么就要让喷淋管能实现独立压力控制，这样根据不同尺寸的产品对压力进行微调（大尺寸的板水池效应大），从而得到一个较佳的均匀性。通常设备精度好不好，就是通过蚀刻均匀性好不好来衡量的。
由于蚀刻是一个放热 的化学反应，所以完善冷却系统是很有---的，而且冷却管表面积需要符合满载的时的放热量的及时冷却，温度不宜超过2度，超过2度以上还不能冷却到设定温度，说明设计冷却盘的面积过小，满载生产时会出现超温导致必须停止生产。
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