硬烘、刻蚀等工序，photolithography（光刻）意思是用光来制造一个图形。（工艺）；在硅片外表匀胶，然后将掩模版上的图形转移光，刻胶上的将器件或电路结构暂时“”到硅片上的过，程。光刻的目的，使表有疏水性，增强基底外表与光刻胶的黏附性，丈量台、台承载硅片的作业台。也便是本次所说。的双作业台，光束纠正器纠正光束入射方向，德州蚀刻设备，让激光束尽量平行，能量操控器操控终照硅片上的能量，缺少，或过足都会---影响成像。光束形状设置设置光束为圆型、环型等不同形状，同的光束状况有不同的光学特性。遮光器在不需求的时分。
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1、 化学蚀刻法—用强酸或强碱溶液直接对工件未被保护部位进行化学腐蚀，这也是目前使用的一种方法，优点是蚀刻---可深可浅，蚀刻速度很快，电解蚀刻设备，缺点是腐蚀液对环境有很大的污染，---是蚀刻液不易回收。并且在生产过程中对操作工人的---有害。
2、 电化学蚀刻—这是一种把工件做阳极，使用电解质通电，阳极溶解，从而达到蚀刻目的的方法，其优点在于方面，对环境污染很小，对操作工人的---无害，缺点是蚀刻---较小，大面积蚀刻时，电流分布不均匀，---不易控制。
3、 激光蚀刻法—优点是线性边沿整齐无侧蚀现象，但成本---，约为化学蚀刻法的一倍。印刷电路板行业印刷锡膏时，所用的不锈钢丝网大多是用激光蚀刻法制作的。
可以采用满版印刷、刷涂、滚涂或喷涂的方式，对油墨涂层的均一性要求不是---，只要能---涂层能够在蚀刻时对产品需保护部位得到充分的保护。
此工序和制作网板中的涂布工序差不多，只是制作网板是在网砂上涂感光油墨，而金属蚀刻是直接在工件表面涂布
热风预烘干（30-40℃，10-15分）
目的只是防止---时感光油墨粘住菲霖。要在暗室中进行操作。
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高压灯、碘灯、金属卤素灯。
时间：二十秒左右，抽真空；根据工件的精度要求适当调整---时间。精度要求越高，---时间要适当缩短
显影
对于水光油墨，可采用1%碳酸钠水溶液或直接用清水，温度25-30℃，手工显影或喷射显影。
对于油光油墨，可采用进行手工显影或喷射显影。
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