光刻机和刻蚀机的区别:
刻蚀相对光刻要容易。光刻机把图案印上去,然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案(或者没有图案)的部分,留下剩余的部分。
“光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆(或者叫硅片)上盖上事先做好的光刻板,然后用紫外线隔着光刻板对晶圆进行一定时间的照射。原理就是利用紫外线使部分光刻胶变质,浙江蚀刻机,易于腐蚀。
“刻蚀”是光刻后,用腐蚀液将变质的那部分光刻胶腐蚀掉(正胶),晶圆表面就显出半导体器件及其连接的图形。然后用另一种腐蚀液对晶圆腐蚀,形成半导体器件及其电路。
金属化学蚀刻加工技术的四个步骤:
1. 清洁处理:
其目的是将待腐蚀零件毛坯表面的各种污渍清洗干净,以---防蚀层能与金属表面的粘附力均匀一致,并使蚀刻速度均匀不变。 常用的清洁处理方法有:
清洁、碱性化学清洁、酸性化学清洁、超声波清洁、有电解清洁处理等。在使用过程中可根据零件金属材料类型及零件表面的污染程度分别选择
2. 防蚀处理:
其目的是保护那些不需要腐蚀加工的表面,使需要腐蚀加工的金属表面完全曝露出来,而被与金属性料相适应的腐蚀剂所腐蚀。这一工序要求:防蚀材料要与金属表面粘附牢固,彩色标牌蚀刻机,并在整个腐蚀过程中不会发生防蚀层脱落现象。防蚀处理主要包括:丝网印刷防蚀技术、照相化学防蚀技术、 移印防蚀技术、图形电镀防蚀技术、激光光刻防蚀技术及刻划防蚀技术等。
3. 腐蚀加工
是将被腐蚀金属零件按图纸要求制作好防蚀图文后,放入腐蚀槽中进行腐蚀加工的过程。在这一工序中主要控制:腐蚀剂浓度、腐蚀温度、蚀刻时间,铜牌制作蚀刻机,蚀刻压力等。金属腐蚀加工根据图纸要求可分为五种基本类型,即:整体腐蚀、选择腐蚀、多台阶腐蚀、锥度腐蚀和化学切割下料。金属腐蚀不需要进行防蚀处理,零件经清洁处理后即可进行腐蚀加工。
4. 清除防蚀层:
零件经腐蚀合格后,使用溶剂、碱液或其他清洁剂将零件表面的防蚀层去掉。
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全自动型蚀刻机
增加了自喷与被蚀刻金属片的合理总面积和蚀刻匀称程度,不管在蚀刻实际效果、速度和改进作业者的自然环境及便捷程度,都好于泼溅式蚀刻;经不断试验喷涌工作压力在1-2kg/cm2的状况下被蚀刻工件上所残余的蚀刻圬渍能被合理清处掉,使蚀刻速度在传统式蚀刻法上进一步提高,因为该蚀刻机液---可循环系统再造应用,该项可---降低蚀刻成本费,也可做到环境保护生产加工规定。
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