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以不锈钢us304的腐蚀加工为主

　　蚀刻机里添加化学蚀刻液为：---化铁

　　化学式：fecl3=fecl3·6h2o

　　一.蚀刻液条件

　　波美度： 38°—42°

　　药液温度： 45°—50°

　　ph值测量区间： 1ph-3ph

　　氧化剂 fecl3

　　二.新反应过程

　　---化铁蚀刻液对不锈钢的蚀刻是一个“氧化---还原”过程：

　　1.氧化反应：2fecl3+fe=3fecl2

　　---化铁+不锈钢+水=氯化亚铁+板材蚀刻成品+水+不锈钢杂质

腐蚀是将金属工件使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。

腐蚀技术可以分为『湿腐蚀』(wet etching)及『干腐蚀』(dry etching)两类。

通常所指腐蚀也称光化学腐蚀（photochemical etching），指通过贴不干胶；---制版、显---或丝印网版形成图像转移，将需腐蚀区域的保护油墨去除露出需要腐蚀的地方，菏泽标牌设备报价，在腐蚀时金属接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。

早可用来制造铜版、锌版、不锈钢等印刷凹凸版，自动标牌设备报价，也广泛地被使用于减轻重量(weight reduction)仪器镶板，广告牌标牌及传统加工法难以加工之薄形工件等之加工；经过不断的技术改良和工艺设备发展，数码标牌设备报价，也可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密腐蚀产品的加工，---在半导体制程上，腐蚀更是不可或缺的技术。

比如不锈钢过滤网片，圆孔均为采用镂空腐蚀工艺成型。

工艺流程：清洁工件去油污(不锈钢或其他金属工件)--- 涂布---烤干--------- 显影--蚀刻—退膜

离子植入：其是用来控制半导体中杂的关键程序，对半导体表面附近区域进行掺杂技术。优点在于杂的控制，杂质分布的再重整，及低温下操作。离子植入机主要的供厂商为amat，部份只有中电科电子装备公司能供应。市场预计今明两年离子植入机需求可达5亿美元与7亿美元。沉积：pvd沉积为一种物理制程，此技术一般使用等惰性气体，藉由在高真空---离子以加速撞击溅镀靶材后，将靶材原子一个个溅击出来，使被溅击出来的材质沉积在晶圆表面。薄膜沉积设备主要的供应商包含应用材料、vaportech、lamresearch、asm、tokki等。而相关设备制造厂有北方华创、沈阳拓荆等。北方华创是薄膜沉积设备，目前技术已达到14nm。市场预计今明两年薄膜沉积设备需求可达15亿美元与20亿美元。测试：在晶圆完成制造之前，会有一道晶圆中测工序。在测试过程中，会检测每一个芯片的电路功能。

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